目前市場上提供的商品掃描電鏡分為兩類：場發射掃面掉進（FEG SEM）和常規掃描電鏡（ConventionalSEM，簡稱（C SEM）。

場發射掃描電鏡

場發射掃描電鏡屬于高分辨型電鏡，使用場發射槍，如同也一個2000W特種電源，亮度高，可以照明樣品各個部位的細節，電子束斑直徑不小于1nm。能把樣品1nm尺度的細節成像，可以真正實現低加速電壓下工作。提供的高分辨率圖像可以與同樣放大倍率下的透射電鏡圖像進行對比。現代FEG SEM克服了早期電子源不穩定和使用麻煩的缺點，場發射電子槍參數一經設定后，全部由計算機控制，使用是只需要選定加速電壓就可以操作，幾十調10萬倍圖案，也是輕而易舉的事情。為此電鏡廠家在電子槍的選用、透鏡像差校正、信號探測和高真空系統等方面進行了精心設計和制造，追求分辨率的提高，由此可見，分辨率值使反應電鏡綜合性能的唯一指標。FEG SEM目前已經大量應用于半導體、電腦、材料等領域。

常規掃描電鏡

常規掃描電鏡使用熱電子槍，與場外發射槍相比，相當10W白熾燈，亮度有限，束斑直徑較大。兩種電鏡分辨相差不大，但想要獲得一張3NM分辨率的圖像，不是任何一個人是可以實現的，這已經是目前的極限值。至于放大倍率可達到300kx，則沒有任何實際意義，因為束斑直徑明顯大于該倍率下的像元值，分辨率受到束斑直徑的限制，但是對于大量的常規檢測，這種電鏡因其價格便宜，適用性強，維護費用低而不可或缺

轉載請表明出處：http://m.semarack.com/saomiaodianjing